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旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，主要用于制備薄膜材料，其應(yīng)用范圍包括制備太陽(yáng)能電池，制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物...
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磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)...
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單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室S...
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1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明：宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子...
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多功能粉體包覆磁控鍍...該設(shè)備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
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四探針薄膜厚度測(cè)試儀四探針測(cè)試儀用于半導(dǎo)體、薄膜、導(dǎo)電涂層等材料的電學(xué)性能測(cè)試。四探針薄膜厚度測(cè)試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果
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旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜...旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
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桌面型雙靶磁控濺射鍍...本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
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桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出
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桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜...熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸...熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜
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澆筑坩堝升降式感應(yīng)加...澆筑坩堝升降式感應(yīng)加熱爐是一種利用電磁感應(yīng)加熱的工業(yè)爐，主要用于金屬熔煉和鑄造。其核心特點(diǎn)是坩堝可升降，便于金屬熔煉后的澆筑操作
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非自耗型高真空電弧爐超高溫大容量非自耗型高真空電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)驗(yàn)要求精心研發(fā)設(shè)計(jì)的一款主要用于：熔煉難熔金屬及合金，可進(jìn)行冶煉、提純、脫氧、除雜等。特別適合高校及科研院所進(jìn)行新材料的真空冶煉或小批量制備
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1800度1Kg真空...1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明：宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子工業(yè)所需要的合金和特殊鋼
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換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀本型號(hào)等離子濺射儀，采用二級(jí)濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)，本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)，用戶可以在觸控屏上實(shí)現(xiàn)一鍵換位，樣品臺(tái)可在兩個(gè)靶位自由切換，本設(shè)備體積小巧造型美觀功能強(qiáng)大，是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀，采用二級(jí)濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀，是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀，采用二級(jí)濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀，是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀，采用二級(jí)濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀，是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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四噴頭超聲波勻膠機(jī)旋...四噴頭超聲波勻膠機(jī)是一種面向未來的gaoduan微納加工設(shè)備。它解決了傳統(tǒng)勻膠技術(shù)在三維、異質(zhì)集成和昂貴材料應(yīng)用中的根本性瓶頸，是推動(dòng)先進(jìn)半導(dǎo)體、MEMS和下一代顯示技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵工藝裝備之一。
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全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一種基于離心力原理的精密涂覆設(shè)備，通過程序化控制基片旋轉(zhuǎn)速度、加速度和時(shí)間，實(shí)現(xiàn)液體材料（如光刻膠、PDMS膠等）在基片表面的均勻分布，形成高質(zhì)量薄膜或涂層
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8英寸晶圓烤膠機(jī)8英寸晶圓烤膠機(jī)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
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桌面平板式涂布機(jī)桌面平板式涂布機(jī)廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應(yīng)未來高溫條件下成膜的科學(xué)技術(shù)的發(fā)展
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卷繞型狹縫涂布機(jī)全自動(dòng)卷繞涂布機(jī)主要用于實(shí)驗(yàn)室涂布液體或膠體膜。該設(shè)備采用無級(jí)變速電機(jī)**控制涂膜速度，從而達(dá)到使樣品勻速前進(jìn)而均勻涂膜的目的
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間歇式鋰電池涂布機(jī)間歇式鋰電池涂布機(jī)本著方便研究者使用，同時(shí)滿足涂布精度和一致性無異于生產(chǎn)的要求設(shè)計(jì)，烘干效果優(yōu)異，是鋰離子電池、超級(jí)電容、鎳電池以及其他二次電池研發(fā)的理想之選
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晶體生長(zhǎng)爐的應(yīng)用領(lǐng)域
晶體生長(zhǎng)爐的應(yīng)用領(lǐng)域晶體生長(zhǎng)爐是一種重要的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，在...[詳情]
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